前世，EUV刻機的聯合研發功幾乎近當時人類理學、材料學以及製造的極限，除了源功率要求極高，鏡和反鏡系統也極致，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護的良品率也不高，別ASmL或Nikon，就算是科技實力世界第一的國，以一國之力，完全自主製造一臺EUV刻機，比登還難。

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