時刻關注刻機技進展的孫健，如今還沒有聽說臺積電的林博士在國際半導研討會上提出研發「沉浸式刻」的設想。

「沉浸式刻」就是在晶圓刻膠上方加一層水，水的介質折率是1.44，193nm/1.44≈134nm，在不改變刻機波長況下，變相擴大了NA，使得193nm波長的

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